真空系統(tǒng)的核心是真空室，它是為特定應(yīng)用量身定制的。它包括應(yīng)用程序，并可靠地將其與外部隔離，或防止環(huán)境受到內(nèi)部過程的影響。無論干燥過程是否需要高真空環(huán)境，等離子過程都需要在中真空或高真空環(huán)境中進(jìn)行，并且表面研究也需要在高真空環(huán)境中進(jìn)行：真空室必須始終機(jī)械承受來自大氣的壓力差。

　　真空室是廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代制造工業(yè)和科學(xué)研究的基本裝置之一，例如電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)的大規(guī)模印刷線路、集成電路和大面積超導(dǎo)薄膜的制備等，真空沉積過程中通常對真空度都有較高的要求。真空沉積時真空室的漏氣、真空室壁面的放氣和被蒸發(fā)材料本身的放氣都可能導(dǎo)致真空室內(nèi)真空度的快速變差，因此需要采用相應(yīng)的措施快速改善真空室內(nèi)的真空度。目前，在保證真空室良好密封性的前提下，采用具有大抽速的鈦升華泵可以使真空室快速達(dá)到超高真空度。由于鈦在升化和沉積的過程中，與活性氣體結(jié)合成穩(wěn)定的化合物——固相的TiO或TiN，從而能夠快速將真空室內(nèi)的氣體分子抽除。

　　針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的就是提供一種費(fèi)用相對低廉的快速提高真空室專用真空系統(tǒng)真空度的方法。

　　為實(shí)現(xiàn)上述目的，提供一種快速提高真空室真空度的方法，在真空室內(nèi)，使活性高且穩(wěn)定性好的金屬蒸發(fā)形成蒸氣粒子，并將該蒸氣粒子沉積于金屬板表面形成金屬膜，金屬粒子及其形成的新鮮金屬膜可以快速吸附真空室內(nèi)的氣體分子，并進(jìn)一步生成穩(wěn)定的固態(tài)物質(zhì)。在真空室內(nèi)，采用蒸發(fā)方式，使少量活性高且穩(wěn)定性好的金屬材料蒸發(fā)為蒸氣粒子，蒸氣粒子迅速與真空室內(nèi)的水蒸氣、氧氣、氫氣等氣體發(fā)生反應(yīng)，生成穩(wěn)定的固態(tài)物質(zhì)，從而達(dá)到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室專用真空系統(tǒng)的真空度，不僅費(fèi)用低廉而且迅速高效。

　　通過引入真空系統(tǒng)專用真空系統(tǒng)，為了達(dá)到最佳配置，在選擇真空系統(tǒng)時，應(yīng)考慮以下幾點(diǎn)：

　　首先必須檢查確定每個過程所需的真空度。由于每個過程都有自己的真空度范圍，因此必須仔細(xì)研究。

　　真空泵系統(tǒng)的極限真空度是在確定過程所需的真空度的基礎(chǔ)上進(jìn)行檢查的，因?yàn)橄到y(tǒng)的極限真空度決定了系統(tǒng)的最佳工作真空度。通常，系統(tǒng)的極限真空度比系統(tǒng)的工作真空度低20%，比前級的極限真空度低50%。

　　檢查達(dá)到所需真空度所需的時間，真空管道的流阻和泄漏?？紤]在達(dá)到所需真空度后在某些過程要求下保持真空度所需的抽氣速率。

　　檢查泵送的類型和所需的泵送量，以確定過程。因?yàn)槿绻盟偷臍怏w類型與真空泵中的液體反應(yīng)，則真空系統(tǒng)將被污染。同時，必須考慮確定適當(dāng)?shù)呐艢鈺r間和在泵送過程中產(chǎn)生的氣體量。